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  1. 2017.08.08 DRAM 생산에 사용되는 광경화성수지


KrF 엑시머광, ArF 엑시머광의 파장 영역에서는 노볼락형 수지를 사용할 수가 없습니다. 이것은 노볼락형 수지 자신이 이러한 파장 영역에 강한 흡수를 나타내고, 레지스트막의 표면에서는 반응이 진행되지만, 막 내부에 빛이 도달하지 않기 때문입니다. KrF 엑시머광용 레지스트에서는 노볼락형 수지 대신에 248nm에 흡수창을 가진 폴리히드록시스티렌이 이용되고 있습니다.





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