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투명 전도체는 많은 응용시장을 가지고 있기 때문에 연구가 활발히 진행되고 있는데 특히 가장 우수한 특성을 가지고 있으나 가격 문제를 가지고 있는 ITO를 대체하기 위한 연구가 활발하게 진행되고 있습니다.투명전자소자를 제조하기 위한 공정개발에서 가장 큰 문제가 되고 있는 것은 투명전자소자를 구성하는 물질이 주로 산화물이어서 식각 시 선택 비를 확보하는 것이 쉽지 않다는 것입니다.대부분의 산화물이 고온공정을 거쳐야 안정된 특성을 나타내기 때문에 값싼 유리 기판을 활용하기 위해서 최대 250℃이하의 적절한 저온 공정을 확보하는 것이 중요한 문제가되고 있으며 포토리소그라피 공정에서 투명한 기판, 소재를 사용하기 때문에 생기는 문제점도 해결해야 할 과제로 남아있습니다.
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