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  1. 2017.03.08 터치패널의 장비기술


은나노와이어의 경우 양산화가 진행되고 있으나 저항 감소를 위해서는 Haze 문제를 해결해야 하고, 메탈메쉬의 경우 부분적으로 물결무늬처럼 보이는 무아레 현상과 같은 광학적 문제를 가지고 있고, 시인성 확보를 위해서는 약 2㎛ 이하의 선폭이 구현되어야 하는데, 이를 위해 나노임프린트 공정이나, 스퍼터링을 이용한 증착 방법을 사용하고 있습니다.

최근 Narrow 베젤 구현이 중요시되면서 기존 스크린 인쇄방식이 아닌 Photo-Lithography방식과 Gravure Offset방식 등이 시도되고 있습니다. 스크린 인쇄방식은 그림을 그리듯 붓에 물감을 묻혀 실버 페이스트를 스크린 마스크를 통해 도포하는 방식이며, Photo-Litho-Graphy방식은 감광성 실버페이스트 또는 DFR을 도포한 후 노광하여 현상하는 방식입니다. 마지막으로 Gravure Offset방식은 Roll에 패턴을 형성하여 Blanket Roll을 통해 기판에 옮기는 방식을 말합니다.





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Posted by 티씨씨
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