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투명전자소자를 제조하기 위한 투명 재료 기술 분야에서 투명반도체의 경우 현재는 ZnO나 InO, GaO, SnO 등 산화물 재료와 이들의 조합으로 구성된 재료들이 주로 사용되고 있습니다.가시광선 영역에서 투명한 이들 재료 중 어떤 재료가 가장 안정적이고 성능이 뛰어난 반도체 성능을 보여줄 지에 대한 공정 기술 연구가 필요한 상황입니다.
절연체의 경우에는 지금까지 활용되어온 소재 중 특정한 투명 반도체와 같이 사용되어 가장 좋은 특성을 나타내는 재료를 선정하는 연구가 진행되고 있으며 양산성을 고려, 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막이 가장 많이 연구되고 있습니다.
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