투명 전도성 필름의 제조방법 - 초미립자 분산도료 도포법

 

 

안티몬을 도핑한 산화주석을 초미립자화(0.1-0.6 마이크론)하고, 이를 도료화하여 폴리에스테르 필름 표면에 도포, 1-2 마이크론 정도의 투명전도성 피막을 만듭니다. 얻어지는 전도성으로서는 표면저항이 -  Ω이 한계이며, 일반적으로는  - 이고, 가시광선 투과율은 70-80%입니다.
투명 전도성 필름의 용도로서는 전기적 성질을 이용하는 것과, 광학적 성질을 이용하는 것이 있으며, 따라서 전도성과 가시광선투과율이 양호한 것이 요구됩니다.
표면저항이  Ω 이하에서, 가시광선투과율이 80% 이상의 용도(예를 들면 액정 디스플레이, 면발열체 등)로 되면 물리적 성막법에 의한 필름에 한정됩니다.

 

 

 

 

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